热处理设备的分类介绍

　　热处理设备可分为立式炉、卧式炉和快速热处理炉

　　立式炉：立式炉的主要控制系统分为炉管、硅片传动系统、气体分配系统、废气系统和控制系统五个部分。炉管是加热硅片的地方，由垂直石英钟盖、多区加热电阻线和加热管套组成。硅片传动系统的主要功能是在炉管中装卸硅片。硅片装卸由自动机械完成，自动机械在平台、炉、平台和冷却平台之间移动。气体分配系统将正确的气流传输到炉管，以保持炉内的气氛。

　　废气系统位于炉管一端的通孔，用于完全清除气体及其副产品。控制系统(微控制器)控制炉的所有操作，包括工艺时间和温度控制、工艺步骤顺序、气体类型、气流速率、温升速率、装卸硅片等。每个微控制器都是主计算机的接口。与水平炉相比，垂直炉可以减少面积，更好地控制温度和均匀性。

　　卧式炉：其石英管水平放置，用于放置和加热硅片。其主控系统与立式炉一样分为五个部分。

　　快速热处理炉(RTP)：快速加热炉(RTP)是一种小型快速加热系统，使用卤素红外灯作为热源，可以快速提高硅片温度到加工温度，减少工艺稳定所需的时间，并在工艺结束后快速冷却。与传统的垂直炉相比，快速加热炉(RTP)的温度控制更先进，主要区别在于其快速加热、特殊的硅片加载装置、强制空气冷却和更好的温度控制器。特殊的硅片加载装置增加了硅片之间的间隙，使硅片之间的加热或冷却更加均匀。

　　传统的立式炉采用热电偶进行温度测量和控制，快速升温炉(RTP)采用模块化温度控制，允许对硅片进行单独的加热和冷却，而不仅仅是控制炉内的大气。此外，大批量硅片(150-200片)和加热率之间存在折衷。快速加热炉(RTP)适用于小批量(50-100片)，以提高加热率，因为同时处理的硅片较少，这种小批量也可以改善工艺中的局部气流。